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リソグラフィプロセスとHMDS
現在「IBM社レジスト特許を読む」を学習中です。
これまでにも通勤時間などを利用して、半導体関連の本を読んだり、ブログにも気づきなどを記録してきました。本を読んだことで、半導体製造に関してだいたいの流れを把握したつもりでしたが、今思えば、中身をほとんど理解していませんでした。
フォトリソグラフィプロセス （https://www.tok.co.jp/business/nanometre.html）例えば、現在学習中のレジストのコーティングプロセス。上記の図では、プロセス2にあたります。
ここで、どうしてMHDSによる前処理システムが必要なのか？そもそもMHDSとは何なのか？など、学習中に、たくさんの疑問点が浮かび上がってきます。
MHDS
ヘキサメチルジシラザンの略称。
役割：ウェーハ表面を疎水化して現像液の浸入を防ぐ。
このようにレジストが剥がれにくくなることから、「HMDS処理はレジストの密着性を良くする」と言われることもある。
シランカップリング処理による疎水化
・シランカップリング処理は、基板表面の極性成分を低下させる作用がある。
・すなわち、基板表面に存在するOH基などの親水基を疎水基（親油基）に置換する。
・特に、コーティング膜の液中での安定性にシランカップリング処理は有効である。
・また、シランカップリング処理は真空系を必要としないため、設備は比較的簡略であり、汎用性の高い表面改質処理として位置付けられる。
使用例
・半導体LSIプロセス
・液晶パネル
・太陽電池パネル作製
MHDSについて少し知識が広がりましたが、これは半導体を理解する上でのほんの一部にすぎません。
半導体→半導体製造→リソグラフィ→レジスト→コーティング→MHDS
半導体を得意分野だと言えるようになるためには、もっと広い範囲で、もっと深掘りする必要がありますね。
最近の学習法
最近は、類似の明細書をタブレットに10件ほど入れておき、会社のランチタイムに、【従来の技術】、【背景技術】、【発明が解決しようとする課題】を重点的に読み、また図表を見て、自分が理解できるかどうかを確認しています。
明細書の中でも専門用語が少なく読みやすい項目なので、読んでいて楽しいのですが、やはり知らない用語もかなり出てきます。その際は、できる限りその場で調べるようにしています。ノートPCを持ち込めたら、すごく作業がはかどるだろうな…と思うことがよくありますが、さすがに、あまりにも大っぴらにするのは気が引けます。
以前は早めに家を出て、朝の1時間弱、駅のベンチで勉強をしていました。しかし、最近はあまりにも暑いため、人事の方に了解をもらい、早めに会社に行き、冷房の効いた会社の休憩室で学習させてもらっています。
いつも一番のりなのですが、最近、2人目、3人目と、少し早めに会社に到着する人が出てきました。そして、自分と同じように本を読んだり、勉強を始めたりするのです！
おかげで、朝の学習タイムに関しては、「自分だけが殻に閉じこもって、誰ともしゃべらずに黙々と勉強している」という引け目がなくなりました。
これからもこの調子で「勉強してるから声かけないでね」オーラを放ち、勉強にいそしみたいと思います。
参照URL
https://www.tok.co.jp/business/nanometre.html
http://www.ltj.co.jp/tech_surface.php
http://www.adhesion.co.jp/technology/wet/0503.html
今日の一言
自分が全く予想しない球が来た時に、どう対応するか。それが大事です。
試合では打ちたい球は来ない。 好きな球を待っていたのでは終わってしまいます。
イチロー
