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・0879_IBM社レジスト特許を読む（２９）
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・0894_IBM社レジスト特許を読む（４０）
・0797_理系の秀才が中高時代に読んでいる本
・2738_アウトプットを重視する
・2740_本質的な学び方
日本語明細書
真空蒸着装置関連明細書（【従来の技術】、【背景技術】 【発明が解決しようとする課題】を重点的に）
過去と現在の差 、そして未来へ
引き続き、「IBM社レジスト特許を読む」を学習中です。
レジストについて学ぶのはもちろんですが、その周辺知識についてもいろいろな切り口で説明があり、また検索することも多いため、膨大な情報の海を泳いでいる状態です。
その広大な海からどうやって最適な情報を取り出し、内容を理解し、その上で最適な訳語などをどれだけ素早くかつ的確に見つけ出すのかは、個人の力量に左右されますが、自分はまだまだ模索中です。
今現在だけを見つていると、以前と比べてほとんど成長していない気がして、不安になることがあります。
そういうときは、過去に管理人さんに質問したメールや掲示板、それと、これまでのブログを少し読み返すことにしています。
過去
受講開始直後から「Ｐ＆Ｇ特許を読む」を読み始めました。化学の知識を持たず、岡野も橋本も手を付けていなかったため、疑問だらけだったことを覚えています。
そして１２月、管理人さんに「Ｐ＆Ｇ特許を読む」に関する質問をしました。
簡単に言えば、「ポリマーと、重合体と、高分子の違いってなぁに？この３つを、どう訳し分けたらいいの？」という内容です。
その質問を「2142_高分子とポリマー（Ｑ＆Ａ）」で取り上げていただきましたが、ここで自分が、「翻訳」そのものに対し何もわかっていないことが判明しました。
いわゆる、Aという英語をBという日本語に置き換えることしか考えていない「置換屋」でしかなかったのです。
岡野の化学の学習中に、「自分は置換屋だった」と身を染みて感じ、ブログにも気づきとしてのせました。質問してから３か月後の、今年３月のことです。
そして現在
そして月日が経ち、現在「IBM社レジスト特許を読む」の学習中ですが、特許明細書の原文にpolymerという単語が何度か出てきます。
例えば、こちらの base polymer。
The photoresist is a single component resist in which the photoactive element is chemically bonded to the base polymer.
前記フォトレジストは、光反応性部位がベースポリマーに化学的に結合している単一成分レジストである。
今であればこの「ベースポリマー」を、「基礎高分子」のように訳そうとは思いません。「基礎高分子」は、「高分子」という分野における学問の基礎ようにに思えます。
この書籍は良さそうですね。結構お高いですが、近々購入したいです。
Google検索してみたところ、「ベース重合体」「基礎重合体」などの使われ方をしているものもありようですが、このコンテキストには合いません。
重合体(polymer)は、共重合体(copolymer)や単独重合体／ホモポリマー(homopolymer)などとの比較に使用されたり、プラスチックやゴムなどの、別の物質に対して使われることが多いような気がします。
上記の個人的な解釈は間違っているかもしれませんが、やはりここでは、「ベースポリマー」が最適な気がします。
オゾンを用いた環境に優しいレジスト除去に関する研究
今、「ポリマーと、重合体と、高分子の違いってなぁに？この３つを、どう訳し分けたらいいの？」と聞かれても、残念ながらちゃんと答えることはできません。やはり、「コンテキストに合わないから」としか言えないのです。
また数か月経ち、同じ質問をするときには、しっかり答えることができるようになっているのでしょうか。
そうでありたい。そうであるためには、またコツコツと学習し、知識を増やしていく必要があります。
コピー用紙１枚の厚さは、0.1ｍｍほど。これほど薄いものでも、1万枚重ねれば１ｍになります。コピー用紙を1万枚使う勢いで学習すれば、「自分はプロの特許翻訳者だ」と躊躇することなく言えるようになるかな、と思っています。
目指せ、コピー用紙1万枚！
今日の一言
夢なき者に理想なし、
理想なき者に計画なし、
計画なき者に実行なし、
実行なき者に成功なし。
故に、夢なき者に成功なし。
吉田松陰
