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・TC0050_岡野の化学（５０）
読書
・よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み P61－P74
露光装置関連の図や写真
半導体の露光技術と装置について本を読みましたが、あまりにも疲れていてちゃんとまとめる時間がないため、本日は関連写真や図を探し、こちらに載せました。
ニコンミュージアムに、この投影レンズが展示されているらしく、本当に見てみたいです！投影レンズ萌えする私は、やはりおかしいのでしょうか。
現在主流になっている露光技術のArF液浸露光とマルチパターニングの組み合わせは、だいぶ限界に近付いている（これ以上の微細化手段がない）と言われているようですが、EUV露光技術にもまだ問題があり、本格的な量産まではまだ時間がかかるとのこと。
この先どのように半導体技術が発展していくのか、特許翻訳者としては興味津々です。また、この半導体露光装置の開発・製造において、日本企業がオランダのＡＳＭＬ社に追いつく日が来るのでしょうか。
