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・TC0049_岡野の化学(49)
読書
・よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み P45-P60
ダブルパターニング技術
微細なパターンを描画するのに二回の露光を行うことで実現しようとする考え(一回の露光での解像度を二回の露光で向上させようという考え)
ダブルパターニングの位置づけ
- EUV実用化までの“つなぎ”技術
- 何世代か継続する技術
微細なパターンを描画するのに二回の露光を行うことで実現しようとする考え(一回の露光での解像度を二回の露光で向上させようという考え)
ダブルパターニングの位置づけ